面掃條紋光柵結構光成像
雙目結構,最優基線比設計,滿足高精度數據采集要求
適用于大視野、遠距離、大景深、大尺寸工件的識別定位
適用于各種顏色工件及一定程度反光工件的識別定位
對環境光具備良好適應性,可在60000Lux光照度下穩定運行
防護等級IP65